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IPG Photonics推出新型UV激光微加工系統(tǒng)

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2014-10-10     來(lái)源:[標(biāo)簽:出處]     作者:[標(biāo)簽:作者]     瀏覽次數(shù):137
核心提示:
網(wǎng)訊——世界領(lǐng)先的大功率光纖激光器和光纖放大器制造商IPG Photonics Corporation近日推出了其新型IX-255 UV激光微加工系統(tǒng),這是一款多功能、適用于研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用的先進(jìn)、高度靈活的系統(tǒng)。該系統(tǒng)可提供高達(dá)25 J/cm2、適用于陶瓷鉆孔的光束功率密度,也可提供用于大范圍加工如保護(hù)涂層移除、絕緣層剝除和退火等應(yīng)用所需的低功率密度。用戶(hù)還可對(duì)其光束形狀進(jìn)行編程,以用于一般用途的圖案形成、切割和機(jī)械加工。

專(zhuān)*技術(shù)。系統(tǒng)軟件內(nèi)建了宏構(gòu)建工具,可實(shí)現(xiàn)復(fù)雜特性加工的快速編程和工藝自動(dòng)生成,同時(shí)允許通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的CSV、DXF文件輸入復(fù)雜圖案。

  IX-255產(chǎn)品的應(yīng)用范圍包括陶瓷材料的激光鉆孔和切割、微流體設(shè)備的圖案成形以及聚合物低錐角孔的機(jī)械加工。該系統(tǒng)可用于微電子加工,例如導(dǎo)體的3D微加工、玻璃鉆孔和切割、選擇性材料移除(接觸墊曝光)和切邊。在大區(qū)域曝光模式下,該系統(tǒng)可用于半導(dǎo)體、電子連接器和生物醫(yī)學(xué)設(shè)備的表面退火應(yīng)用。

新型UV激光微加工系統(tǒng)

  為便于精確控制劑量,IX-255可配備選配的擴(kuò)展均束器,從而可以在增強(qiáng)光束一致性的同時(shí)提供高達(dá)兩倍的系統(tǒng)輸送量(對(duì)于大視場(chǎng)曝光應(yīng)用)。

  IPG微系統(tǒng)子公司總裁Jeffrey Sercel表示,"IX-255系統(tǒng)主要針對(duì)于極為精密的顯微機(jī)械加工、先進(jìn)材料加工開(kāi)發(fā)和小功率制造,可輕松將全面的IPG微系統(tǒng)工業(yè)級(jí)聚束和微加工功能集于一個(gè)激光器工作站中,滿(mǎn)足客戶(hù)長(zhǎng)期以來(lái)的集成愿望。IX-255使用高脈沖能量UV激光器、可互換的光束傳輸元件和完全集成的軟件,超高靈活性使其成為最理想的一般用途激光微加工工具"。

                                                                                                                         Viki譯 Alex校對(duì)

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