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電鍍的基本知識(shí)

放大字體  縮小字體 發(fā)布日期:2014-10-21     來源:[標(biāo)簽:出處]     作者:[標(biāo)簽:作者]     瀏覽次數(shù):106
核心提示:

  電鍍?yōu)橐环N電解過程,提供鍍層金屬的金屬片作用有如陽極,電解液通常為鍍著金屬的離子溶液,被鍍物作用則有如陰極,陽極與陰極間輸入電壓后,吸引電解液中的金屬離子游至陰極,還原后即鍍著其上。同時(shí)陽極的金屬再溶解,提供電解液更多的金屬離子。某些情況下使用不溶性陽極,電鍍時(shí)需添加新群電解液補(bǔ)充鍍著金屬離子。

  一般泛指以電解還原反應(yīng)在物體上鍍一層膜。其目前使用種類有:一般電鍍方法有(ELECTROPLATING)、復(fù)合電鍍(復(fù)合的PLATING)、合金電鍍(合金PLATING)、局部電鍍(挑選的PLATING)、筆電鍍(鋼筆PLATING)等等。由於電鍍表面具有保護(hù)兼裝飾效用;故廣被應(yīng)用。也有少部分的電鍍提供其他特性,諸如高導(dǎo)電性、高度光反射性或降低毒性,最常使用的電鍍金屬為鎳、鉻、錫、銅、銀及金。電鍍技術(shù)目前可電鍍之金屬約70種,合金電鍍約15種。

 

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